氮化镓(InGaN)LED能够发出大量的绿光、蓝光和紫外光,但辐射黄光、橙光和红光等长波长光的效率却很低。因此,在一些需要可见光全光谱的设备中,InGaN二极管还未能完全替代荧光粉材料。近日,新加坡和美国的研究人员研究了一种利用InGaN材料的内在缺陷产生长波长光的新方法。他们在这些缺陷上生长了富铟量子点,并测量了量子点辐射的红光。该研究目前已发表于ACS Photon., doi: 10.1021/acsphotonics.1c01009。这种新方法可能被用来制备可兼容CMOS的LED,该LED可以发出全光谱的可见光,而不需要荧光粉,因此不会产生多余热量,也不会缩短二极管的寿命。
利用LED材料的内在缺陷制造富铟量子点的新方法
研究团队来自新加坡-麻省理工学院研究与技术联盟,他们提出目前制备全光谱InGaN二极管的一般使用带有图案的基板,这增加了制造的复杂性和成本。然而,这种半导体材料的晶体结构具有自然位错,这使得当InGaN通过化学气相沉积法在硅衬底上生长时(两者之间有一个氮化镓铝的缓冲层),缺陷凝聚成纳米级的V形坑。在显微镜下能够看到随机分布的峰和谷。在相邻的谷中间的山峰上,富铟量子点能够自发形成,而这些量子点能够有效辐射红光。
研究人员表示,他们意识到V型坑的纹理表面与一些预制的图案基板结构相似,因此就利用了这个事实。在实验中,他们还观察到了额外晶体缺陷能够进一步增强发光,这是一个意外的发现。
由于富铟量子点的尺寸大约为10纳米,,研究人员必须进行高空间分辨率的测量从而研究其结构和光学特性。研究人员使用电子显微镜进行表征,并进行了相关的光学和元素光谱图的测量。
研究人员表示,将量子点的发射颜色推到更长的波段是非常有意义的,因为这表明能够进一步增加量子点内的铟浓度。如果将此结构辐射的不同波段的光收集,则该缺陷就能够实现白光发射。另外,由于基于此结构的LED的制造技术与传统的LED制造相似,经过优化和测试后,该结构可以实现产品化。