基于CMOS平台的超表面减色滤光片

       近日，来自新加坡微电子研究所（Institute of Microelectronics）和中山大学（Sun Yat-sen University）的研究人员展示了使用CMOS兼容的制造工艺在12英寸（300毫米）玻璃晶片衬底上制造的SCF。为了在透明玻璃基片上制备透射式SCF，研究人员采用自行开发的层转移工艺来解决制造工具中的玻璃晶片处理问题。为了研究SCF性能与柱高之间的关系，制作了三批不同柱高的晶片。展示了不同颜色的功能性SCF，并通过在红-黄-蓝（RYB）色轮内匹配过滤后颜色的互补色来验证所显示的颜色。这项工作为大规模生产结构彩色滤光片铺平了道路。文章以“metasurface-based subtractive color filter fabricated on a 12-inch glass wafer using a CMOS platform”为题，发表在《Photonics Research》上。（鲁强兵）

文章链接：https://doi.org/10.1364/PRJ.404124