使用带隙工程技术抑制功能性纳米光子学在可见光和近红外范围内的材料损失

       近日，来自纽约市立大学先进科学研究中心的Mingsong Wang等人采用带隙工程技术来合成氢化非晶硅纳米粒子（a-Si:H NPs），为功能纳米光子学提供了理想的功能。他们观察到由氢化引起的带隙重整化导致可见光范围内a-Si:H NPs的材料损失受到显著抑制，在单个NPs中产生强的高阶共振模，Q值在可见光和近红外范围内高约100。他们还通过将a-Si:H NP耦合到光致变色螺吡喃分子上来实现高度可调谐的全介电亚原子。他们还演示了在低入射光强度下，高阶共振模式下光散射的大约70％的可逆全光调谐。他们的结果促进了高效可见纳米光子器件的开发。相关研究工作发表在《Nature Communications》上。（詹若男）

文章链接：Mingsong Wang et al. Suppressing material loss in the visible and near-infrared range for functional nanophotonics using bandgap engineering. Nature Communications (2020) 11:5055
       https://doi.org/10.1038/s41467-020-18793-y